Crescita e caratterizzazione del film sottile di ITO mediante sputtering magnetronico

In questo studio i film sottili di ossido di indio e stagno (ITO) sono stati coltivati con tecniche di sputtering magnetronico DC e RF. Per conoscere il tasso di deposizione di ITO, il sistema è stato calibrato sia per DCMS che RFMS e poi ITO è cresciuto su un substrato di vetro con lo spessore di 70 nm e 40 nm cambiando la temperatura del substrato. L'effetto della temperatura del substrato, lo spessore del film e il metodo di sputtering sulle proprietà strutturali, elettriche e ottiche sono stati studiati. I risultati mostrano che la temperatura del substrato e lo spessore del film influenzano sostanzialmente le proprietà del film, specialmente la cristallizzazione e la resistività. I film sottili cresciuti a temperature inferiori a 150°C hanno mostrato una struttura amorfa. Tuttavia, la cristallizzazione è stata rilevata con l'ulteriore aumento della temperatura del substrato. Band gap di ITO è stato calcolato per essere circa 3.64eV alla temperatura del substrato di 150 oC, e si è allargato con l'aumento della temperatura del substrato. Dalle misure elettriche la resistività a temperatura ambiente è stata ottenuta 1.28×10-4 e 1.29×10-4 D-cm, per DC e RF film sputtered, rispettivamente. Abbiamo anche misurato la resistività in funzione della temperatura e il coefficiente di Hall dei film, e abbiamo calcolato la concentrazione dei portatori e la mobilità di Hall.